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超聲霧化CVD系統(tǒng) 詳細(xì)摘要： 該技術(shù)特別適用于那些難以獲得高純氣態(tài)前驅(qū)體、或使用氣態(tài)前驅(qū)體成本過(guò)高的材料體系，是傳統(tǒng)CVD和噴霧熱解（Spray Pyrolysis）技術(shù)的重要升級(jí)。
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：鄭州市 更新時(shí)間：2025-11-23 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
PECVD系統(tǒng)（集成氣化裝置） 詳細(xì)摘要： 設(shè)備簡(jiǎn)介：
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：鄭州市 更新時(shí)間：2025-11-23 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
化學(xué)氣相沉積(CVD)CVDO1200-XTIG3Z 詳細(xì)摘要： 設(shè)備簡(jiǎn)介：
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：鄭州市 更新時(shí)間：2025-11-23 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
迷你型FBCVD（流化床立式管式爐） 詳細(xì)摘要： 設(shè)備簡(jiǎn)介:
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：鄭州市 更新時(shí)間：2025-11-23 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
超聲霧化CVD管式爐（mist-CVD霧化化學(xué)氣相沉積Mist Chemical Vapor Deposition） 詳細(xì)摘要： 設(shè)備簡(jiǎn)介：
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：鄭州市 更新時(shí)間：2025-11-23 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 詳細(xì)摘要： 設(shè)備簡(jiǎn)介：
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：鄭州市 更新時(shí)間：2025-11-23 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
1200℃旋轉(zhuǎn)擺振CVD包覆加熱爐 詳細(xì)摘要： 1200℃旋轉(zhuǎn)擺振自動(dòng)進(jìn)出料CVD（化學(xué)氣相沉積）包覆加熱爐是一種高度集成的設(shè)備，專門設(shè)計(jì)用于在嚴(yán)格控制的條件下進(jìn)行高質(zhì)量材料表面涂層。該設(shè)備不僅具備高溫處理能...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：鄭州市 更新時(shí)間：2025-11-22 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
化學(xué)氣相沉積CVD一體機(jī) 詳細(xì)摘要： 設(shè)備簡(jiǎn)介：
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：鄭州市 更新時(shí)間：2025-11-22 參考價(jià)： 面議 在線留言